本申請?zhí)岣吡四拥墓鉄徂D(zhuǎn)換的效率，其中的工作原理是：純銅、黃銅的低發(fā)射率在金屬中比較低，*為0.03～0.05，因此本申請濺鍍制備了銅離子膜，作為低發(fā)射率膜，以降低膜層的發(fā)射率；抗反射膜是利用材料表面的反射能力與其折射率有關(guān)這一特性，通過降低材料表面的折射率，減少材料對太陽輻射的反射，在金屬表面做多孔的二氧化硅膜層，其折射率較低，可使太陽反射比**降低；氧化鉻等氧化物具有高吸收率，經(jīng)檢測，本申請制備的膜層的太陽吸收率為93％～97％。實施例1一種用于選擇性吸收太陽光譜的膜層的制備方法，包括以下依次進行的步驟：由于在濺鍍化合物薄膜時，若直接以化合物當(dāng)作靶材，則所濺鍍出來的薄膜會與靶材成份有所差別。廣西AM0太陽光譜模擬濾光片

為了得到高質(zhì)量的化合物薄膜，通常在濺鍍金屬靶時，通入與被濺射出的物質(zhì)反應(yīng)的氣體，相互反應(yīng)生成所需的化合物沉積在基材上，此種濺鍍系統(tǒng)稱為反應(yīng)性濺鍍。如果所通入的氣體含量剛好足夠與濺射出的原子進行反應(yīng)，使得在靶材表面甚少形成化合物，則有利濺射的進行。相反地，如果通入過量的氣體，則不僅在基材上與濺射出的原子進行反應(yīng)，也會在靶面上與靶材反應(yīng)生成化合物。因此，如何提高吸熱體的基材的外表面上的薄膜對太陽熱能的吸收，提高光熱轉(zhuǎn)換的效率，是本領(lǐng)域技術(shù)人員急需解決的技術(shù)問題。技術(shù)實現(xiàn)要素：湖南下打光太陽光譜模擬工廠以往使用的化學(xué)鍍膜，對環(huán)境污染大，而且對太陽熱能的吸收不好。

例如，獲取模塊310、***計算模塊320、第二計算模塊330和第三計算模塊340中的任意多個可以合并在一個模塊中實現(xiàn)，或者其中的任意一個模塊可以被拆分成多個模塊。或者，這些模塊中的一個或多個模塊的至少部分功能可以與其他模塊的至少部分功能相結(jié)合，并在一個模塊中實現(xiàn)。根據(jù)本發(fā)明的實施例，獲取模塊310、***計算模塊320、第二計算模塊330及第三計算模塊340中的至少一個可以至少被部分地實現(xiàn)為硬件電路，例如現(xiàn)場可編程門陣列(fpga)、可編程邏輯陣列(pla)、片上系統(tǒng)、基板上的系統(tǒng)、封裝上的系統(tǒng)、**集成電路(asic)，或可以通過對電路進行集成或封裝的任何其他的合理方式等硬件或固件來實現(xiàn)，或以軟件、硬件以及固件三種實現(xiàn)方式中任意一種或以其中任意幾種的適當(dāng)組合來實現(xiàn)。或者，獲取模塊310、***計算模塊320、第二計算模塊330及第三計算模塊340中的至少一個可以至少被部分地實現(xiàn)為計算機程序模塊，當(dāng)該計算機程序模塊被運行時，可以執(zhí)行相應(yīng)的功能。

WTi-Al2O3金屬陶瓷基太陽光譜選擇性吸收涂層在600℃退火前后反射光譜變化圖、微結(jié)構(gòu)和熱強化機理示意圖   金屬納米粒子嵌入到陶瓷基體中組成的金屬陶瓷薄膜是太陽光譜選擇性吸收涂層的**工作層，其熱穩(wěn)定性和綜合光學(xué)性能直接決定著整個涂層的光熱轉(zhuǎn)換效率。高溫下，金屬陶瓷膜內(nèi)金屬納米粒子的團聚、長大、氧化及涂層內(nèi)層間原子的擴散遷徙，往往會導(dǎo)致成分和微結(jié)構(gòu)的變化，從而誘發(fā)涂層光學(xué)性能的衰減 (不可逆性)。如何解決上述問題，構(gòu)建熱穩(wěn)定性優(yōu)異、熱發(fā)射率低且吸收率高的太陽光譜選擇性吸收涂層，是光熱技術(shù)應(yīng)用所面臨的重要材料基礎(chǔ)問題。  相互反應(yīng)生成所需的化合物沉積在基材上，此種濺鍍系統(tǒng)稱為反應(yīng)性濺鍍。

膠態(tài)量子點具有兩大優(yōu)勢。首先是更廉價，因為它們降低了每瓦電力產(chǎn)生的成本，但更主要的優(yōu)勢在于，只需簡單改變量子點的大小，就能改變吸收光譜。大小容易改變且可調(diào)諧是等離子材料的屬性：通過改變等離子粒子的大小，研究人員就能將這兩種重要納米粒子的吸收和散射光譜重疊起來。   薩金特研究小組通過將金納米殼直接嵌入量子點吸收膜提高了太陽能電池的效率，他們下一步將尋找利用更廉價的金屬來達成相同的目標(biāo)。美國加州大學(xué)納米系統(tǒng)研究所所長保羅·維斯認(rèn)為，該項研究的重要性在于展示了通過調(diào)節(jié)納米粒子特性以提高太陽能電池效率的潛力。這一方法不同于一般在房頂或者田野中看到的那種太陽能電池板。吉林下打光太陽光譜模擬價格

雖然所用的材料花費很大，但用于制造這種電池的技術(shù)很有前途。廣西AM0太陽光譜模擬濾光片

以AgAl-Al2O3金屬陶瓷薄膜作為吸收層，成功構(gòu)建了AgAl-Al2O3太陽光譜選擇性吸收涂層。在氮氣氣氛下經(jīng)500℃退火1002 h，其太陽光譜吸收率穩(wěn)定在95%左右，400℃紅外發(fā)射率約在10-11%，如圖1所示（Advanced Materials Interfaces 2016, 3, 1600248）。   目前國內(nèi)外研究人員積極開發(fā)基于熔融鹽（如60% KNO3+40% NaNO3）熱工質(zhì)的高溫太陽能熱發(fā)電系統(tǒng)，其工作溫度常在550℃以上，客觀上對太陽光譜選擇性吸收涂層提出了更為苛刻的要求，如何獲得600℃下具備優(yōu)異熱穩(wěn)定性的太陽光譜選擇性吸收涂層是亟需攻克的難題之一。此外，廣西AM0太陽光譜模擬濾光片

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