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來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2023-01-16

可選地,根據(jù)散射輻射大氣透明度系數(shù)和太陽(yáng)高度角,計(jì)算太陽(yáng)散射輻射強(qiáng)度,包括:根據(jù),計(jì)算太陽(yáng)散射輻射強(qiáng)度es(α,z),k2為常系數(shù),取值范圍通常為0.6≤k2≤0.9。(三)有益效果本發(fā)明提供一種太陽(yáng)光照補(bǔ)償值計(jì)算方法,至少包括以下有益效果:通過(guò)地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像的尺寸、地理經(jīng)度區(qū)間、地理緯度區(qū)間、拍攝日期、拍攝時(shí)刻和拍攝位置高程,計(jì)算拍攝時(shí)刻的太陽(yáng)赤緯角、太陽(yáng)時(shí)角、太陽(yáng)高度角、太陽(yáng)輻射強(qiáng)度、大氣光學(xué)質(zhì)量、直射輻射大氣透明度系數(shù)、直接輻射強(qiáng)度、散射輻射大氣透明度系數(shù)、散射輻射強(qiáng)度、太陽(yáng)總輻照強(qiáng)度,實(shí)現(xiàn)對(duì)于不同日期、不同時(shí)間、不同地點(diǎn)拍攝的地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像的太陽(yáng)光照補(bǔ)償值計(jì)算,并且計(jì)算復(fù)雜度低,運(yùn)行速度快,算法簡(jiǎn)單,易于工程實(shí)現(xiàn)。膜層的附著力根據(jù)標(biāo)準(zhǔn)要求測(cè)試,結(jié)果為1級(jí);本申請(qǐng)制備的膜層的光熱轉(zhuǎn)換的效率為77%~82%。內(nèi)蒙古代理太陽(yáng)光譜模擬購(gòu)買

厚度為0.1~2μm的薄層金屬氧化物或硫化物,如氧化銅、氧化鉻等,具有很高的太陽(yáng)輻射吸收比和長(zhǎng)波輻射透射比。6層構(gòu)成的膜層的緩沖膜、過(guò)渡膜、吸收膜的主要成分是氧化鉻等氧化物,能夠吸收波長(zhǎng)范圍為0.20~3.0μm的太陽(yáng)輻射能量并轉(zhuǎn)化為熱能。本申請(qǐng)實(shí)現(xiàn)了用于選擇性吸收太陽(yáng)光譜的膜層的吸收率高、發(fā)射率低以及附著力好,其中的工作原理是:在2500nm波長(zhǎng)以下的太陽(yáng)光反射光譜,反射率越低,吸收率越高,相反的,在2500nm波長(zhǎng)以上的太陽(yáng)光反射光譜,反射率越高,發(fā)射率越低;對(duì)基材表面作預(yù)處理,增加吸熱體表面粗超度,能有效增強(qiáng)附著力,根據(jù)標(biāo)準(zhǔn)要求測(cè)試,結(jié)果為1級(jí)。黑龍江AM0太陽(yáng)光譜模擬代理反應(yīng)生成的氮氧化鉻、氮化鉻以及氧化鉻沉積在步驟3)制得的緩沖膜的外表面上形成過(guò)渡膜。

近年來(lái),中國(guó)科學(xué)院寧波材料技術(shù)與工程研究所功能薄膜與智構(gòu)器件團(tuán)隊(duì)聚焦新型金屬陶瓷基太陽(yáng)光譜選擇性吸收涂層研發(fā),以提升熱穩(wěn)定性為抓手,在新型耐高溫金屬陶瓷材料設(shè)計(jì)、光學(xué)模擬、涂層構(gòu)筑和熱穩(wěn)定性強(qiáng)化機(jī)理研究等方面開展了一系列的工作。前期,利用金屬Al合金化Ag納米粒子,結(jié)合多靶共濺射的方法,獲得新型AgAl-Al2O3金屬陶瓷薄膜,耐熱溫度較Ag-Al2O3(350℃)提高至500℃,在非真空條件下經(jīng)高溫長(zhǎng)時(shí)間退火(~1000 h),光學(xué)性能非常穩(wěn)定(ACS Applied Materials Interfaces 2014, 6, 11550; Applied Surface Science 2015, 331, 285)。

伴隨工作溫度的升高,如何抑制高溫下熱輻射損失顯得愈發(fā)重要。基于前期的研究基礎(chǔ),研究組開發(fā)出另一種新型金屬陶瓷薄膜WTi-Al2O3。借助光學(xué)模擬設(shè)計(jì),獲得太陽(yáng)光譜選擇性吸收涂層結(jié)構(gòu)參數(shù)的優(yōu)化范圍,構(gòu)建了WTi-Al2O3太陽(yáng)光譜選擇性吸收涂層。經(jīng)600℃長(zhǎng)時(shí)間(840 h)退火,WTi-Al2O3涂層仍保持較高的吸收率~93%,500℃下的熱發(fā)射率*有10.3%,遠(yuǎn)低于文獻(xiàn)報(bào)道值(>13%@500℃)。研究表明,WTi合金納米粒子內(nèi)金屬Ti的外擴(kuò)散、偏析及部分氧化可有效抑制W納米粒子的團(tuán)聚和長(zhǎng)大,從而提高涂層的熱穩(wěn)定性,實(shí)現(xiàn)對(duì)WTi-Al2O3太陽(yáng)光譜選擇性吸收涂層光學(xué)性能和熱穩(wěn)定性的雙重調(diào)控(Nano Energy 2017, 37, 232),堆棧式電池就像是太陽(yáng)光篩子,每層的特制材料吸收特定波長(zhǎng)**的能量。

本申請(qǐng)?zhí)岣吡四拥墓鉄徂D(zhuǎn)換的效率,其中的工作原理是:純銅、黃銅的低發(fā)射率在金屬中比較低,*為0.03~0.05,因此本申請(qǐng)濺鍍制備了銅離子膜,作為低發(fā)射率膜,以降低膜層的發(fā)射率;抗反射膜是利用材料表面的反射能力與其折射率有關(guān)這一特性,通過(guò)降低材料表面的折射率,減少材料對(duì)太陽(yáng)輻射的反射,在金屬表面做多孔的二氧化硅膜層,其折射率較低,可使太陽(yáng)反射比**降低;氧化鉻等氧化物具有高吸收率,經(jīng)檢測(cè),本申請(qǐng)制備的膜層的太陽(yáng)吸收率為93%~97%。實(shí)施例1一種用于選擇性吸收太陽(yáng)光譜的膜層的制備方法,包括以下依次進(jìn)行的步驟:如果所通入的氣體含量剛好足夠與濺射出的原子進(jìn)行反應(yīng),使得在靶材表面甚少形成化合物,則有利濺射的進(jìn)行。上打光太陽(yáng)光譜模擬公司

撞擊出來(lái)的鉻離子與通入的氮?dú)獍l(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成氮化鉻,反應(yīng)生成的氮化鉻沉積。內(nèi)蒙古代理太陽(yáng)光譜模擬購(gòu)買

在本申請(qǐng)的一個(gè)實(shí)施例中,步驟2)中,靶材為銅靶,氬氣流量為50~500sccm,制得的低發(fā)射率膜的厚度為180~220nm。在本申請(qǐng)的一個(gè)實(shí)施例中,步驟3)中,靶材為鉻靶,氬氣流量為50~300sccm,氮?dú)饬髁繛?0~100sccm,制得的緩沖膜的厚度為30~150nm。在本申請(qǐng)的一個(gè)實(shí)施例中,步驟4)中,靶材為鉻靶,氬氣流量為50~500sccm,氮?dú)饬髁繛?0~200sccm,氧氣流量為10~200sccm,制得的過(guò)渡膜的厚度為30~100nm。在本申請(qǐng)的一個(gè)實(shí)施例中,步驟5)中,靶材為鉻靶,氬氣流量為50~300sccm,氧氣流量為10~200sccm,制得的吸收膜的厚度為30~120nm。內(nèi)蒙古代理太陽(yáng)光譜模擬購(gòu)買

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