et(d，α，z)＝ed(d，α，z)+es(α，z)，(12)其中，ed(d，α，z)與es(α，z)可從操作s102中得出。s104，針對于不同拍攝日期、和/或不同拍攝時間、和/或拍攝位置對應(yīng)的所述地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像，計算各自對應(yīng)的太陽總輻照強度相互之間的差值，得到各個地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像之間的太陽光照補償值。從方程(12)可以看出，由于太陽高度角α(x，y，d，t)由遙感圖像中像素點坐標(biāo)值(x，y)、圖像拍攝時間在一年中的第d天和拍攝時間t決定，因此太陽總輻照強度et(d，α，z)由遙感圖像中像素點坐標(biāo)值(x，y)、(x，y)處的高程z，圖像拍攝時間在一年中的第d天和拍攝時間t決定，則et(x，y，z，d，t)≡et(d，α，z).(1)為了得到高質(zhì)量的化合物薄膜，通常在濺鍍金屬靶時，通入與被濺射出的物質(zhì)反應(yīng)的氣體。湖北AM1.5太陽光譜模擬代理

2)濺鍍制備低發(fā)射率膜：在第二真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材，撞擊出來的銅離子沉積在步驟1)制得的強化膜的外表面上形成低發(fā)射率膜；3)反應(yīng)性濺鍍制備緩沖膜：在第三真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材，撞擊出來的鉻離子與通入的氮氣發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成氮化鉻，反應(yīng)生成的氮化鉻沉積在步驟2)制得的低發(fā)射率膜的外表面上形成緩沖膜；4)反應(yīng)性濺鍍制備過渡膜：在第四真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材，撞擊出來的鉻離子與通入的氧氣與氮氣發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成氮氧化鉻、氮化鉻以及氧化鉻，反應(yīng)生成的氮氧化鉻、氮化鉻以及氧化鉻沉積在步驟3)制得的緩沖膜的外表面上形成過渡膜；四川高級太陽光譜模擬科學(xué)家們設(shè)計和建造了一種新型太陽能電池的原型，將多個電池堆疊到一個設(shè)備中。

本發(fā)明涉及圖像處理領(lǐng)域，尤其涉及一種太陽光照補償值計算方法。背景技術(shù)：地球靜止軌道光學(xué)遙感衛(wèi)星的軌道周期與地球自轉(zhuǎn)周期相同，與地球保持相對靜止，擁有較大的成像幅寬，可對某一大面積指定感興趣區(qū)域進行連續(xù)觀測，具有時間分辨率高、數(shù)據(jù)時效性好等優(yōu)點。然而，由于地球自轉(zhuǎn)和圍繞太陽公轉(zhuǎn)，導(dǎo)致地球上同一位置的光照強度每天都是不同的。此外，由于地球本身是圓形的，因此即使同一時刻，不同經(jīng)度和緯度的光照強度也是不一樣的，這就導(dǎo)致靜止軌道光學(xué)遙感衛(wèi)星在不同日期、不同時間、不同地點拍攝的圖像的亮度有很大差別，這對遙感圖像后續(xù)處理和應(yīng)用造成很大困難。因此，如何對在不同日期、不同時間、不同地點拍攝的地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像進行太陽光照補償值計算是本領(lǐng)域技術(shù)人員亟需解決的問題。

顯示的區(qū)域約1納米寬，中心在628納米左右。通過*0.7秒的單次曝光記錄太陽光譜的可見區(qū)域，演示了HN-9332光譜儀的寬波長覆蓋范圍。圖的左側(cè)部分顯示了SpectraLoK軟件直接顯示的整個425-700nm波長范圍。圖的右部分顯示了在517nm附近鎂三重態(tài)周圍連續(xù)擴展的區(qū)域。HN-9332光譜儀的儀器分辨率比較好用頻率單位來表示——儀器波長覆蓋范圍約20GHz，對應(yīng)于425nm處約15pm、550nm處約2pμm和700nm處約30pm的分辨率。因此，圖中顯示的數(shù)據(jù)可以理解為相當(dāng)于>10000個分辨率點，所有這些分辨率點都記錄在不到1秒的單次曝光中。反應(yīng)性濺鍍制備緩沖膜：在第三真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材。

第五計算單元325，用于根據(jù)太陽高度角和所述拍攝位置高程，計算相對大氣光學(xué)質(zhì)量；第六計算單元326，用于根據(jù)相對大氣光學(xué)質(zhì)量，計算直射輻射大氣透明度系數(shù)，并根據(jù)直射輻射大氣透明度系數(shù)，計算散射輻射大氣透明度系數(shù)；第七計算單元327，用于根據(jù)大氣層上界垂直入射時的太陽輻射強度、所述直射輻射大氣透明度系數(shù)和太陽高度角，計算所述太陽直接輻射強度；第八計算單元328，用于根據(jù)散射輻射大氣透明度系數(shù)和太陽高度角，計算太陽散射輻射強度。需要說明的是，裝置部分的實施例方式與方法部分的實施例方式對應(yīng)類似，具體細(xì)節(jié)請參照方法實施例部分，在此不再贅述。**優(yōu)于國家標(biāo)準(zhǔn)要求，太陽吸收比α(am1.5)達0.94，半球發(fā)射比εh(80℃)*為0.038。青海代理太陽光譜模擬報價

在***真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材，撞擊出來的鉻離子與通入的氧氣發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成氧化鉻。湖北AM1.5太陽光譜模擬代理

陽光是一種**度、易獲得的光源，包括數(shù)千個“內(nèi)置”的校準(zhǔn)光譜特征。許多研究都需要用到這種質(zhì)量的光源，例如日光誘導(dǎo)葉綠素?zé)晒猓恢脖?，作物和礦物的地物光譜，高光譜，以及多光譜測試；地球大氣層研究等等。LightMachinery的高分辨率光譜儀，不但可以用來測試太陽光譜，也可以利用其高分辨率測試的夫朗和費線反演太陽自轉(zhuǎn)，大氣水汽等等。顯示太陽光譜**直接的方法是將直射陽光耦合到連接到光譜儀輸入端口的光纖中。某些型號的LightMachinery光譜儀提供了必要的光通量和靈敏度來記錄太陽光譜，只需將光纖端部大致對準(zhǔn)太陽的方向即可。湖北AM1.5太陽光譜模擬代理

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