Nanoscribe作為一家納米，微米和中尺度高精度結(jié)構(gòu)增材制造**，一直致力于開發(fā)和生產(chǎn)和無掩模光刻系統(tǒng)，以及自研發(fā)的打印材料和特定應(yīng)用不同解決方案。在全球頂端大學(xué)和創(chuàng)新科技企業(yè)的中，有超過2,500多名用戶在使用我們突破性的3D微納加工技術(shù)和定制應(yīng)用解決方案。作為基于雙光子聚合技術(shù)（2PP）的微納加工領(lǐng)域市場帶領(lǐng)者，Nanoscribe在全球30多個國家擁有各科領(lǐng)域的客戶群體?；?PP微納加工技術(shù)方面的專業(yè)知識，Nanoscribe為頂端科學(xué)研究和工業(yè)創(chuàng)新提供強大的技術(shù)支持，并推動生物打印、微流體、微納光學(xué)、微機械、生物醫(yī)學(xué)工程和集成光子學(xué)技術(shù)等不同領(lǐng)域的發(fā)展。“我們非常期待加入CELLINK集團，共同探索雙光子聚合技術(shù)在未來所帶來的更大機遇”NanoscribeCEOMartinHermatschweiler說道專業(yè)人才們運用Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)，實現(xiàn)微流道母版制造和密閉通道系統(tǒng)內(nèi)部的芯片內(nèi)直接打印。北京亞微米級雙光子聚合無掩光刻

對準雙光子光刻技術(shù)(A2PL®)是Nanoscribe基于雙光子聚合（2PP）的一種新型專利納米微納制造技術(shù)。該技術(shù)可以將打印的結(jié)構(gòu)自動對準到光纖和光子芯片上，例如用于光子封裝中的光學(xué)互連。同時高精度檢測系統(tǒng)還可以識別基準點或拓撲基底特征，確保對3D打印進行高度精確的對準。Nanoscribe對準雙光可光刻技術(shù)搭配nanoPrintX，一種基于場景圖概念的軟件工具，可用于定義對準3D打印的打印項目。樹狀數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)提供了所有與打印相關(guān)的對象和操作的分層組織，用于定義何時、何地、以及如何進行打印。在nanoPrintX中可以定義單個對準標記以及基板特征，例如芯片邊緣和光纖表面。使用QuantumXalign系統(tǒng)的共焦單元或光纖照明單元，可以識別這些特定的基板標記，并將其與在nanoPrintX中定義的數(shù)字模型進行匹配。對準雙光子光刻技術(shù)和nanoPrintX軟件是QuantumXalign系統(tǒng)的標配。北京亞微米級雙光子聚合無掩光刻Nanoscribe中國分公司-納糯三維邀您一起探討國內(nèi)在雙光子聚合技術(shù)領(lǐng)域的未來發(fā)展。

Nanoscribe成立于2007年，是卡爾斯魯厄理工學(xué)院(KIT)的衍生公司。Nanoscribe憑借其過硬的技術(shù)背景和市場敏銳度奠定了其市場優(yōu)先領(lǐng)導(dǎo)地位，并以高標準來要求自己以滿足客戶的需求。Nanoscribe將在未來在基于雙光子聚合技術(shù)的3D微納加工系統(tǒng)基礎(chǔ)上進一步擴大產(chǎn)品組合實現(xiàn)多樣化，以滿足不用客戶群的需求。Nanoscribe作為一家納米，微米和中尺度高精度結(jié)構(gòu)增材制造**，一直致力于開發(fā)和生產(chǎn)和無掩模光刻系統(tǒng)，以及自研發(fā)的打印材料和特定應(yīng)用不同解決方案。在全球頂端大學(xué)和創(chuàng)新科技企業(yè)的中，有超過2,500多名用戶在使用我們突破性的3D微納加工技術(shù)和定制應(yīng)用解決方案。

作為微納加工和3D打印領(lǐng)域的帶領(lǐng)者，Nanoscribe一直致力于推動各個科研領(lǐng)域，諸如力學(xué)超材料，微納機器人，再生醫(yī)學(xué)工程，微光學(xué)等創(chuàng)新領(lǐng)域的研究和發(fā)展，并提供優(yōu)化制程方案。2017年在上海成立的中國子公司納糯三維科技（上海）有限公司更是加強了全球銷售活動，并完善了亞太地區(qū)客戶服務(wù)范圍。此次推出的中文版官網(wǎng)在視覺效果上更清晰，結(jié)構(gòu)分類上更明確。首頁導(dǎo)航欄包括了產(chǎn)品信息，產(chǎn)品應(yīng)用數(shù)據(jù)庫，公司資訊和技術(shù)支持幾大專欄。比較大化滿足用戶對信息的了解和需求。Nanoscribe中國子公司總經(jīng)理崔博士表示：“中文網(wǎng)站的發(fā)布是件值得令人高興的事情，我們希望新的中文網(wǎng)站能讓我們的中國客戶無需顧慮語言障礙，更全方面深入得了解我們的產(chǎn)品以及在科研和工業(yè)方面的應(yīng)用。”想要了解更多雙光子聚合加工的應(yīng)用領(lǐng)域，請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。

Nanoscribe獨有的體素調(diào)諧技術(shù)2GL®可以在確保優(yōu)越的打印質(zhì)量的同時兼顧打印速度，實現(xiàn)自由曲面微光學(xué)元件通過3D打印精確對準到光纖或光子芯片的光學(xué)軸線上。NanoscribeQX平臺打印系統(tǒng)配備光纖照明單元用于光纖芯檢測，確保打印精細對準到光纖的光學(xué)軸線上。共焦檢測模塊用于3D基板拓撲構(gòu)圖，實現(xiàn)在芯片的表面和面上的精細打印對準。Nanoscribe灰度光刻3D打印技術(shù)3Dprintingby2GL®是市場上基于2PP原理微納加工技術(shù)中打印速度**快的。其動態(tài)體素調(diào)整需要相對較少的打印層次，即可實現(xiàn)具有光學(xué)級別、光滑以及納米結(jié)構(gòu)表面打印結(jié)果。這意味著在滿足苛刻的打印質(zhì)量要求的同時，其打印速度遠遠超過任何當前可用的2PP三維打印系統(tǒng)。2GL®作為市場上快的增材制造技術(shù)，非常適用于3D納米和微納加工，在滿足優(yōu)越打印質(zhì)量的前提下，其吞吐量相比任何當前雙光子光刻系統(tǒng)都高出10到60倍。Nanoscribe中國分公司-納糯三維為您揭秘什么是飛秒激光雙光子聚合納米光刻。微納米雙光子聚合激光直寫

Nanoscribe中國分公司-納糯三維邀您一起探討國內(nèi)在雙光子聚合技術(shù)領(lǐng)域的進展。北京亞微米級雙光子聚合無掩光刻

雙光子聚合3D打印技術(shù)的發(fā)展也面臨一些挑戰(zhàn)。首先，材料選擇和性能仍然是一個問題。目前可用的光敏樹脂材料種類有限，無法滿足所有需求。其次，打印速度和成本也是制約技術(shù)發(fā)展的因素。雖然雙光子聚合3D打印技術(shù)比傳統(tǒng)技術(shù)更快，但仍然需要進一步提高效率和降低成本。然而，隨著技術(shù)的不斷進步和創(chuàng)新，雙光子聚合3D打印技術(shù)有望在未來取得更大的突破。科研人員正在不斷探索新的材料和打印方法，以提高打印質(zhì)量和效率。同時，企業(yè)也加大了對該技術(shù)的支持和投入，推動其在各個領(lǐng)域的應(yīng)用。雙光子聚合3D打印技術(shù)是一項具有巨大潛力的創(chuàng)新科技。它將為制造業(yè)帶來的變革，推動產(chǎn)品設(shè)計和制造的發(fā)展。我們有理由相信，在不久的將來，雙光子聚合3D打印技術(shù)將成為制造業(yè)的主流技術(shù)，為我們帶來更加美好的未來。北京亞微米級雙光子聚合無掩光刻