作為基于雙光子聚合技術（2PP）的微納加工領域市場帶領者，Nanoscribe在全球30多個國家擁有各科領域的客戶群體?；?PP微納加工技術方面的專業(yè)知識，Nanoscribe為頂端科學研究和工業(yè)創(chuàng)新提供強大的技術支持，并推動生物打印、微流體、微納光學、微機械、生物醫(yī)學工程和集成光子學技術等不同領域的發(fā)展?！拔覀兎浅Ｆ诖尤隒ELLINK集團，共同探索雙光子聚合技術在未來所帶來的更大機遇”NanoscribeCEOMartinHermatschweiler說道。Nanoscribe作為一家納米，微米和中尺度高精度結構增材制造**，一直致力于開發(fā)和生產和無掩模光刻系統(tǒng)，以及自研發(fā)的打印材料和特定應用不同解決方案。在全球頂端大學和創(chuàng)新科技企業(yè)的中，有超過2,500多名用戶在使用我們突破性的3D微納加工技術和定制應用解決方案。

激光增材制造在航空航天、醫(yī)療和汽車等領域有廣泛應用。湖南TPP增材制造QX

   采用增材制造技術的情況下，導管的設計空間得以提升，例如可以設計為擁有螺旋形狀的結構，可以將導管橫截面設計為多邊形，也可以在部件內集成多個導管，至少一個可具有圓形橫截面，還可以再導管內表面上制造一組凸起的表面特征，這組凸起的表面特征可以延伸到導管的內部區(qū)域中。與傳統(tǒng)設計及制造方式相比，3D打印導管可以設計為復雜的形狀、輪廓和橫截面，這是使用常規(guī)減法制造技術（例如，鉆孔）無法實現的。在設計時可以將冷卻部件設計成更接近理想的幾何形狀，從而改進流體系統(tǒng)的熱性能。另外，3D打印技術能夠有效控制導管的內表面光潔度及其特征，起到影響流體的流動特性的作用，通過改變導管的內表面特征，可以改變流動特性（例如湍流），這是傳統(tǒng)設計的導管所無法實現上?？蒲性霾闹圃霶uantum X shape增材制造可減少材料浪費和能源消耗。

  Nanoscribe設備專注于納米，微米和中等尺寸的增材制造。早期的PhotonicProfessionalGT3D打印機設計用于使用雙光子聚合生產納米和微結構塑料組件和模具。在該過程中，激光固化部分液態(tài)光敏材料，逐層固化。使用雙光子聚合，分辨率可低至200納米或高達幾毫米。另一方面，GT2現在可以在短時間內在高達100×100mm2的打印區(qū)域上生產具有亞微米細節(jié)的物體，通常為160納米至毫米范圍。此外，使用GT2，用戶可以選擇針對其應用定制的多組物鏡，基板，材料和自動化流程。 

加入Nanoscribe的用戶行列!作為高精密增材制造領域的先驅和市場領導我們是您在微加工系統(tǒng)、軟件和解決方案方面的可靠合作伙伴。我們成立于2007年，是卡爾斯魯厄理工分離出來的單獨子公司，是一個充滿活力、屢獲殊榮的公司，并于2021年6月成為BICO集團的一部分。憑借成熟穩(wěn)定的系統(tǒng)、直觀的一步加工工作流程和一體化解決方案，我們的3000多名系統(tǒng)用戶正在致力于研究改變未來的應用。Nanoscribe的用戶群體中，有科學研究和工業(yè)的創(chuàng)新者，包括生命科學、微光學、光子學、材料工程、微流體、微力學和MEMS。他們優(yōu)越的創(chuàng)新現已發(fā)表在1300多份同行評議期刊上。3D打印技術可用于制造輕量化零部件。

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2提供世界上特別高分辨率的3D無掩模光刻技術，用于快速，特別高精度的微納加工，可以輕松3D微納光學制作?？梢源钆洳煌幕澹úＡ?，硅晶片，光子和微流控芯片等，也可以實現芯片和光纖上直接打印。我們的3D微納加工技術可以滿足您對于制作亞微米分辨率和毫米級尺寸的復雜微機械元件的要求。3D設計的多功能性對于制作復雜且響應迅速的高精度微型機械，傳感器和執(zhí)行器是至關重要的。基于雙光子聚合原理的激光直寫技術，可適用于您的任何新穎創(chuàng)意的快速原型制作；也適合科學家和工程師們在無需額外成本增加的前提下，實現不同參數的創(chuàng)新3D結構的制作。增材制造方法是什么，歡迎咨詢Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司。MEMS增材制造QX

增材制造技術正在推動制造業(yè)的數字化轉型和創(chuàng)新。湖南TPP增材制造QX

Nanoscribe的Photonic Professional GT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設計多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實現微機械元件的制作，例如用光敏聚合物，納米顆粒復合物，或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人，并可以選擇添加金屬涂層。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機電系統(tǒng)（MEMS）。雙光子灰度光刻技術可以一步實現真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件（DOE），并且滿足DOE納米結構表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。由于需要多次光刻，刻蝕和對準工藝，衍射光學元件（DOE）的傳統(tǒng)制造耗時長且成本高。

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