靶材材質對靶濺射電壓的影響 ：

1. 在真空條件不變的條件下,不同材質與種類靶材對磁控靶的正常濺射電壓會產生一定的影響。

2. 常用的靶材(如銅Cu、鋁Al、鈦Ti?)的正常濺射電壓一般在400~600V的范圍內。

3. 有的難濺射的靶材(如錳Mn、鉻Cr等) 的濺射電壓比較高, 一般需>700V以上才能完成正常磁控濺射過程;而有的靶材(如氧化銦錫ITO) 的濺射電壓比較低，可以在200多伏電壓時實現正常的磁控濺射沉積鍍膜。

4. 實際鍍膜過程中，由于工作氣體壓力變化，或陰極與陽極間距偏小(使真空腔體內阻抗特性發(fā)生變化)，或真空腔體與磁控靶的機械尺寸不匹配，同時選用了輸出特性較軟的靶電源等原因，導致磁控靶的濺射電壓(即靶電源輸出電壓)遠低于正常濺射示值，則可能會出現靶前存雖然呈現出很亮的光圈，就是不能見到靶材離子相應顏色的泛光，以至不能濺射成膜的狀況。 如果化合物的生成速率大于化合物被剝離的速率，化合物覆蓋面積增加。無錫合金靶材

本實施例中，所述防護層400的材料。在其他實施例中，所述防護層的材料還可以為橡膠或棉花。本實施例中，所述防護層400與所述固定板200間通過粘結劑相粘接。所述防護層400與所述拋光片300間也通過粘結劑相粘接。在其他實施例中，所述拋光片朝向所述防護層的表面上具有勾刺結構(圖中未示出)，所述防護層與所述拋光片間通過所述勾刺結構相固定。所述防護層400包括防護層和第二防護層，所述防護層覆蓋所述頂板210底部表面；所述第二防護層覆蓋所述側板220的內側面。所述防護層表面與第二防護層表面相垂直。無錫硒化鎢靶材工廠濺射過程不影響靶材合金、混合材質的比例和性質。

非晶硅薄膜 多晶硅薄膜具有較高的電遷移率和穩(wěn)定的光電性能，是制備微電子器件、薄膜晶體管、大面積平板液晶顯示的質量材料。多晶硅薄膜被公認為是制備低耗、理想的薄膜太陽能電池的材料。因此，如何制備多晶硅薄膜是一個非常有意義的研究課題。固相法是制備多晶硅薄膜的一種常用方法，它是在高溫退火的條件下，使非晶硅薄膜通過固相相變而成為多晶硅薄膜。本文采用固相法，利用X- ray 衍射及拉曼光譜，對用不同方法制備的非晶硅薄膜的晶化過程進行了系統(tǒng)地研究。   在硅薄膜太陽能電池材料中，非晶硅薄膜太陽能電池制造工藝相對簡單，但是存在光電轉換效率低，壽命短，穩(wěn)定性不好，并且存在光致衰退效應(S-W 效應)等缺點。單晶硅薄膜太陽能電池因為制作工藝和制作成本等原因始終得不到推廣，而多晶硅薄膜材料在長波段具有光敏性，能有效的吸收可見光并且具有光照穩(wěn)定性。

濺射靶材的分類有哪些？金屬濺射鍍膜靶材，合金濺射鍍膜靶材，陶瓷濺射鍍膜靶材，硼化物陶瓷濺射靶材，碳化物陶瓷濺射靶材，氟化物陶瓷濺射靶材，氮化物陶瓷濺射靶材，氧化物陶瓷靶材，硒化物陶瓷濺射靶材，硅化物陶瓷濺射靶材，硫化物陶瓷濺射靶材，碲化物陶瓷濺射靶材，其他陶瓷靶材，摻鉻一氧化硅陶瓷靶材(Cr-SiO)，磷化銦靶材(InP)，砷化鉛靶材(PbAs)，砷化銦靶材(InAs)。1.金屬靶材：鎳靶、Ni、鈦靶、T濺射靶材i、鋅靶、Zn、鉻靶、Cr、鎂靶、Mg、鈮靶、Nb、錫靶、Sn、鋁靶、Al、銦靶、In、鐵靶、Fe、鋯鋁靶、ZrAl、鈦鋁靶、TiAl、鋯靶、Zr、鋁硅靶、AlSi、硅靶、Si、銅靶Cu、鉭靶T、a、鍺靶、Ge、銀靶、Ag、鈷靶、Co、金靶、Au、釓靶、Gd、鑭靶、La、釔靶、Y、鈰靶、Ce、鎢靶、w、濺射靶材不銹鋼靶、鎳鉻靶、NiCr、鉿靶、Hf、鉬靶、Mo、鐵鎳靶、FeNi、鎢靶、W等。靶材綁定是指用焊料將靶材與背靶焊接起來。

靶材表面的比較高點和比較低點的垂直距離為5.75-6mm，例如可以是5.75mm、5.76mm、5.77mm、5.78mm、5.79mm、5.8mm、5.81mm、5.82mm、5.83mm、5.84mm、5.85mm、5.86mm、5.87mm、5.88mm、5.89mm、5.9mm、5.91mm、5.92mm、5.93mm、5.94mm、5.95mm、5.96mm、5.97mm、5.98mm、5.99mm或6mm等，但不限于所列舉的數值，該范圍內其他未列舉的數值同樣適用。本發(fā)明中，所述靶材表面的硬度為20-30hv，例如可以是20hv、21hv、22hv、23hv、24hv、25hv、26hv、27hv、28hv、29hv或30hv等，但不限于所列舉的數值，該范圍內其他未列舉的數值同樣適用。本發(fā)明中，通過調整靶材表面的高度差及硬度，保證濺射強度，使得濺射過程中薄膜厚度均勻，使用壽命增加。作為本發(fā)明 的技術方案，所述靶材的比較大厚度為28-30mm，例如可以是28mm、28.1mm、28.2mm、28.3mm、28.4mm、28.5mm、28.6mm、28.7mm、28.8mm、28.9mm、29mm、29.1mm、29.2mm、29.3mm、29.4mm、29.5mm、29.6mm、29.7mm、29.8mm、29.9mm或30mm等，但不限于所列舉的數值，該范圍內其他未列舉的數值同樣適用。靶材太薄、靶材太貴的情況等。 但下列情況綁定有弊端。武漢鈮靶材作用

純度是靶材的主要性能指標之一，因為靶材的純度對薄膜的性能影響很大。無錫合金靶材

技術實現要素：本發(fā)明解決的問題是提供一種靶材拋光裝置，有助于提高作業(yè)效率。為解決上述問題，本發(fā)明提供一種靶材拋光裝置，包括：固定板，所述固定板包括頂板和位于所述頂板一側的側板；拋光片，位于所述固定板內側面上，其中位于固定板彎折處的拋光片呈弧狀?？蛇x的，所述拋光片表面與靶材側壁表面及經圓角處理的側棱相匹配。可選的，所述固定板內側面彎折處形成夾角，位于所述固定板彎折處的所述拋光片的厚度不均。可選的，所述固定板內側面彎折處呈弧狀，位于所述固定板彎折處的所述拋光片的厚度均勻?？蛇x的，所述固定板的材料為金屬或合金?？蛇x的，所述拋光片為砂紙?？蛇x的，所述靶材拋光裝置還包括：防護層，所述防護層位于所述固定板與所述拋光片之間?？蛇x的，所述防護層為彈性材料?？蛇x的，所述防護層的材料為***、橡膠或棉花?？蛇x的，所述靶材拋光裝置還包括：把手，所述把手設置于所述固定板的外表面上?？蛇x的，所述把手的數量為兩個，其中一個所述把手設置于所述固定板的頂部，另一個所述把手設置于所述固定板的側壁上。無錫合金靶材

江陰典譽新材料科技有限公司地處江蘇省江陰市，是一家專業(yè)生產濺射靶材和蒸發(fā)材料的公司，濺射靶材充分借鑒國外的先進技術，并通過與國內外**研發(fā)機構合作，整合各行業(yè)資源優(yōu)勢，生產出多系列***濺射靶材產品。 公司目前主要生產金屬，合金，陶瓷三大類靶材產品。經過幾年的發(fā)展和技術積累，已經擁有：真空熱壓，冷壓燒結，真空熔煉，熱等靜壓，等離子噴涂等技術。另外也可根據客戶要求研發(fā)新型靶材并提供靶材金屬化、綁定和背板服務。 江陰典譽新材料科技有限公司已為以下行業(yè)提供***的靶材：平面顯示、裝飾與工具、太陽能光伏和光熱、電子和半導體、建筑與汽車玻璃大面積鍍膜等工業(yè)領域。同時也為國內外各大院校和研究所提供了很多常規(guī)和新型的試驗用靶材。 江陰典譽目前擁有真空熱壓爐兩臺，冷壓燒結爐一臺，真空熔煉設備兩臺，等靜壓設備一臺，等離子噴涂兩套，綁定平臺兩套，各類機加工設備七臺，檢驗設備若干，確保出廠的每件產品都能達到甚至超過客戶的預期。 江陰典譽秉承：“一切以客戶的需求為導向，客戶的所有需求一次做好?！钡陌l(fā)展理念。