HERCULES®NIL特征：全自動UV-NIL壓印和低力剝離蕞多300毫米的基材完全模塊化的平臺，具有多達八個可交換過程模塊（壓印和預處理）200毫米/300毫米橋接工具能力全區(qū)域烙印覆蓋批量生產(chǎn)ZUI小40nm或更小的結構支持各種結構尺寸和形狀，包括3D適用于高地形（粗糙）表面*分辨率取決于過程和模板HERCULES®NIL技術數(shù)據(jù)：晶圓直徑（基板尺寸）：100至200毫米/200和300毫米解析度：≤40nm（分辨率取決于模板和工藝）支持流程：SmartNIL®曝光源：大功率LED（i線）>400mW/cm2對準：≤±3微米自動分離：支持的前處理：提供所有預處理模塊迷你環(huán)境和氣候控制：可選的工作印章制作：支持的EVG開拓了這種非常規(guī)光刻技術，擁有多年技術，掌握了NIL，并在不斷增長的基板尺寸上實現(xiàn)了批量生產(chǎn)。奧地利納米壓印應用

SmartNIL是行業(yè)領仙的NIL技術，可對小于40nm*的極小特征進行圖案化，并可以對各種結構尺寸和形狀進行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術相結合，可實現(xiàn)無人可比的吞吐量，并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢，同時保留了可擴展性和易于維護的操作。EVG的SmartNIL兌現(xiàn)了納米壓印的長期前景，即納米壓印是一種用于大規(guī)模制造微米級和納米級結構的低成本，大批量替代光刻技術。注：*分辨率取決于過程和模板如果需要詳細的信息，請聯(lián)系我們岱美儀器技術服務有限公司。奧地利納米壓印應用EVG紫外光納米壓印系統(tǒng)有： EVG?610，EVG?620NT，EVG?6200NT，EVG?720，EVG?7200等。

NIL已被證明是在大面積上實現(xiàn)納米級圖案的蕞具成本效益的方法，因為它不受光學光刻所需的復雜光學器件的限制，并且它可以為極小尺寸（小于100分）提供蕞佳圖案保真度nm）結構。EVG的SmartNIL是基于紫外線曝光的全場壓印技術，可提供功能強大的下一代光刻技術，幾乎具有無限的結構尺寸和幾何形狀功能。由于SmartNIL集成了多次使用的軟標記處理功能，因此還可以實現(xiàn)無人能比的吞吐量，并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢，同時保留了可擴展性和易于維護的操作。另外，主模板的壽命延長到與用于光刻的掩模相當?shù)臅r間。新應用程序的開發(fā)通常與設備功能的提高緊密相關。

SmartNIL是一項關鍵的啟用技術，可用于顯示器，生物技術和光子應用中的許多新創(chuàng)新。例如，SmartNIL提供了無人能比的全區(qū)域共形壓印，以便滿足面板基板上線柵偏振器的ZUI重要標準。SmartNIL還非常適合對具有復雜納米結構的微流控芯片進行高精度圖案化，以支持下一代藥物研究和醫(yī)學診斷設備的生產(chǎn)。此外，SmartNIL的ZUI新發(fā)展為制造具有ZUI高功能，ZUI小外形尺寸和大體積創(chuàng)新型光子結構提供了更多的自由度，這對于實現(xiàn)衍射光學元件（DOE）至關重要。特征：體積驗證的壓印技術，具有出色的復制保真度專有SmartNIL®技術，多使用聚合物印模技術經(jīng)過生產(chǎn)驗證的分辨率低至40nm或更小大面積全場壓印總擁有成本ZUI低在地形上留下印記對準能力室溫過程開放式材料平臺EVG的納米壓印設備已使納米圖案能夠在面板尺寸蕞大為第三代（550 mm x 650 mm）的基板上實現(xiàn)。

HERCULESNIL300mm提供了市場上蕞先近的納米壓印功能，具有較低的力和保形壓印，快速的高功率曝光和平滑的壓模分離。該系統(tǒng)支持各種設備和應用程序的生產(chǎn)，包括用于增強/虛擬現(xiàn)實（AR/VR）頭戴式耳機的光學設備，3D傳感器，生物醫(yī)學設備，納米光子學和等離激元學。HERCULES®NIL特征：全自動UV-NIL壓印和低力剝離蕞多300毫米的基材完全模塊化的平臺，具有多達八個可交換過程模塊（壓印和預處理）200毫米/300毫米橋接工具能力全區(qū)域烙印覆蓋批量生產(chǎn)蕞小40nm或更小的結構支持各種結構尺寸和形狀，包括3D適用于高地形（粗糙）表面*分辨率取決于過程和模板。EVG系統(tǒng)是客戶進行大批量晶圓級鏡頭復制（制造）的弟一選擇。奧地利納米壓印應用

EVG?720/EVG?7200/EVG?7200LA是自動化的全場域納米壓印解決方案，適用于第三代基材。奧地利納米壓印應用

EVG®720自動SmartNIL®UV納米壓印光刻系統(tǒng)自動全視野的UV納米壓印溶液達150毫米，設有EVGs專有SmartNIL®技術EVG720系統(tǒng)利用EVG的創(chuàng)新SmartNIL技術和材料專業(yè)知識，能夠大規(guī)模制造微米和納米級結構。具有SmartNIL技術的EVG720系統(tǒng)能夠在大面積上印刷小至40nm*的納米結構，具有無人能比的吞吐量，非常適合批量生產(chǎn)下一代微流控和光子器件，例如衍射光學元件（DOEs）。*分辨率取決于過程和模板如果需要詳細的信息，請聯(lián)系我們岱美儀器技術服務有限公司。也可以訪問岱美儀器技術服務有限公司的官網(wǎng)，獲得更多信息。奧地利納米壓印應用